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半导体ALD/CVD前驱体是半导体薄膜沉积工艺的核心关键原材料,能够通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)和原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)制备金属/氧化物/氮化物薄膜,用于90nm-14nm甚至7nm先进技术节点的集成电路制造工艺,被广泛应用于高端芯片制造,包括逻辑芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等。阿拉丁拥有多种ALD/CVD前驱体材料及技术,可提供包括三甲基铝在内的多种产品。
找到产品336个,本页显示第31至45个
¥56.90
CAS : 2269-22-9
¥52.90
CAS : 10026-12-7
¥377.90
CAS : 10025-76-0
¥61.90
CAS : 102-54-5
¥164.90
CAS : 10138-41-7
¥1,235.90
CAS : 15170-57-7
¥1,225.90
CAS : 14284-92-5
¥1,472.90
¥535.90
CAS : 12289-94-0
¥180.90
CAS : 155640-85-0
¥66.90
CAS : 6046-93-1
¥87.90
CAS : 7790-86-5
¥41.90
¥617.90
CAS : 14877-41-9
¥38.90
CAS : 10099-58-8
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